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Publicação
[Ir(m-SC(CH3)3)(CO)2]2: um novo precursor de irídio para a produção de filmes por OMCVD sobre substratos de grafite
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Orientador(es)
Resumo(s)
As deposições de metais nobre, especialmente Pt, Pd, Rh e Ir obtidas por Deposição Química em fase Vapor (CVD) sobre o suporte adequado são muito interessantes, devido à baixa resistividade e elevada estabilidade térmica dos materiais resultantes.
Descrição
Palavras-chave
Contexto Educativo
Citação
Gomes, Helder; Faria, Joaquim; Figueiredo, José; Feurer, Roselyne; Kalck, Philippe; Serp, Philippe (2000). [Ir(m-SC(CH3)3)(CO)2]2: um novo precursor de irídio para a produção de filmes por OMCVD sobre substratos de grafite. In XIV Encontro Luso-Galego de Química. Braga.